大理石平臺的技術(shù)要求1. 平板工作面上不得有嚴(yán)重影響外觀和使用性能的砂孔、氣孔、裂紋、夾渣、縮松、劃痕、碰傷、銹跡等缺陷。2. 平板非工作面上的凹陷或掉角允許修補。3. 平板應(yīng)采用細晶粒、結(jié)構(gòu)致密的輝長巖、輝綠巖、花崗石（黑云母應(yīng)小于5%、彈性模量應(yīng)大于0.6×10—4kg/cm2、吸水率應(yīng)小于0.25%）等材料制造，其工作面硬度應(yīng)大于70HS。4. 平板工作面的表面粗糙度Ra的z大允許值為0.32~0.63um，側(cè)面為10um。5. 平板工作面的平面度公差見表1的規(guī)定。6. 對采用對角線法或網(wǎng)格法檢驗平板工作面平面度時，應(yīng)檢驗氣平面波動量，工作面的平面波動量見表2的規(guī)定。7. 平板側(cè)面對工作面的垂直度公差和平板兩相鄰側(cè)面的垂直度公差均按GB/T1184中規(guī)定的12級。8. 平板工作面*的集中載荷區(qū)域、施加的額定載荷和允許撓度值見表3的規(guī)定。9. 000級和00級平板建議不設(shè)置搬運手柄。10. 若0級和1級面上設(shè)置螺紋孔（或溝槽），其部位應(yīng)不高于工作面。

大理石平臺的技術(shù)要求

1. 平板工作面上不得有嚴(yán)重影響外觀和使用性能的砂孔、氣孔、裂紋、夾渣、縮松、劃痕、碰傷、銹跡等缺陷。

2. 平板非工作面上的凹陷或掉角允許修補。

3. 平板應(yīng)采用細晶粒、結(jié)構(gòu)致密的輝長巖、輝綠巖、花崗石（黑云母應(yīng)小于5%、彈性模量應(yīng)大于0.6×10—4kg/cm2、吸水率應(yīng)小于0.25%）等材料制造，其工作面硬度應(yīng)大于70HS。

4. 平板工作面的表面粗糙度Ra的zui大允許值為0.32~0.63um，側(cè)面為10um。

5. 平板工作面的平面度公差見表1的規(guī)定。

6. 對采用對角線法或網(wǎng)格法檢驗平板工作面平面度時，應(yīng)檢驗氣平面波動量，工作面的平面波動量見表2的規(guī)定。

7. 平板側(cè)面對工作面的垂直度公差和平板兩相鄰側(cè)面的垂直度公差均按GB/T1184中規(guī)定的12級。

8. 平板工作面*的集中載荷區(qū)域、施加的額定載荷和允許撓度值見表3的規(guī)定。

9. 000級和00級平板建議不設(shè)置搬運手柄。

10. 若0級和1級大理石平臺面上設(shè)置螺紋孔（或溝槽），其部位應(yīng)不高于工作面。