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蘇州清芯卓半導體設備有限公司


  • 濕法EKC清洗機_蘇州芯矽科技

    詳細摘要： 濕法EKC清洗機是半導體清洗設備之一。它基于化學與機械作用結合的原理，利用含氧化劑和酸性物質的溶液清洗晶圓表面，溶解雜質。液體沖刷與超聲波裝置增強效果。具備高效...

    產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-04 在線留言

  • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機

    詳細摘要： SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-12-08 在線留言

  • SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統

    詳細摘要： SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言

  • SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機

    詳細摘要： SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言

  • LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統

    詳細摘要： LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言

  • LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統

    詳細摘要： LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言

  • NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統

    詳細摘要： NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統產品概述：該系統為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言

  • NIE-3000離子束清洗系統

    詳細摘要： NIE-3000離子束清洗系統產品概述：該系統為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊...

    產品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-11 在線留言


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