摻硼金剛石膜（BDD）具有非常寬的電化學(xué)電勢窗口和較小的背景電流，加上金剛石良好的化學(xué)惰性（常溫下不與任何酸堿介質(zhì)反應(yīng)），不易結(jié)垢，因此是電化學(xué)電極材料的。BDD電極已經(jīng)廣泛應(yīng)用于污水處理、電解和電化學(xué)合成，以及基于電化學(xué)原理的探測器、傳感器。

產(chǎn)品應(yīng)用：

附著在金屬電極上的摻硼金剛石涂層存在以下缺點(diǎn)：不能保證消除缺陷，尤其是在角部和邊緣處，存在破壞氣密密封的可能，金屬襯底容易被腐蝕。

增大的應(yīng)力/失配應(yīng)力使金剛石涂層存在破損脫落的可能。我司采用BDD自支撐膜，可以解決以上問題。

產(chǎn)品參數(shù)：

自支撐BDD的厚度范圍為200~1000 μm，此厚度可以脫離基材獨(dú)立使用，避免了膜基分離引起的BDD電極失效；

BDD電極的電阻率為1016 Ω?cm，最小可達(dá)9×10³ Ω?cm；

機(jī)械性能優(yōu)良，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，有耐腐蝕性能，可以長期應(yīng)用在各類檢測環(huán)境；

適用性廣，可根據(jù)電極應(yīng)用的技術(shù)要求靈活調(diào)整其物理化學(xué)性能指標(biāo)(如電阻率、厚度等)。