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廈門天合昆泰科技有限公司
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日立高新離子研磨裝置IM4000
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。（加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：為便于樣品設置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
特點
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間(加工速度：硅材質為300 μm/h - 加工時間減少了66%)
可拆卸式樣品臺：為便于樣品設置和邊緣研磨，樣品臺設計為可拆卸型
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