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SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...
SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...
LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...
NIE-3500（A）全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊...
NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻...
NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊...
NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻...
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