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德國(guó)蔡司ZEISS場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SIGMA 500

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  • 品牌 蔡司/ZEISS
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更新時(shí)間:2021-08-13 14:32:14瀏覽次數(shù):1461

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【聚焦卡爾·蔡司】 
世界光學(xué)品牌,可見光及電子光學(xué)的----德國(guó)蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為L(zhǎng)EO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋),積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn),ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè):
臺(tái)靜電式透射電鏡 (1949) 
臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡 (1965) 
臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡(1985) 
臺(tái)場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(1990) 
臺(tái)帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992) 
臺(tái)具有Koehler照明的 200kV 場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003) 
臺(tái)具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)
CARL ZEISS以其前瞻性的設(shè)計(jì)融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動(dòng)的地位。自成立至今,一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有電鏡制造核心*的專有技術(shù),隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到廣大用戶的信賴與認(rèn)可。作為電鏡標(biāo)準(zhǔn)的CARL ZEISS將一路電鏡市場(chǎng)為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。
 
【核心技術(shù)】
蔡司公司推出的Sigma 500場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),分辨率超過0.8nm,為您提供優(yōu)秀分辨率和分析性能科研平臺(tái)。Sigma500專注于的EDS幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可以獲取的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡(jiǎn)化分析程序、提高工作效率。您會(huì)比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測(cè)器的選擇使Sigma500可以精準(zhǔn)的匹配您的應(yīng)用程序:您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息。
 
【技術(shù)參數(shù)】
分辨率:0.8nm@30kV STEM 
                0.8nm @15 kV   
                1.4 nm @1kV
放大倍數(shù):10-1,000,000×
加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實(shí)現(xiàn))
探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h
低真空范圍:2-133Pa(Sigma 500VP可用)
樣品室: 358 mm(φ),270.5 mm(h)
樣品臺(tái):5軸優(yōu)中心全自動(dòng)               
                 X=130mm
                 Y=130mm
                 Z=50mm
                 T=-4°-70°
                 R=360°
系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制
存儲(chǔ)分辨率:32k x 24k pixels
 
【產(chǎn)品應(yīng)用】   
掃描電鏡廣泛用于材料科學(xué)(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體材料與器件、地質(zhì)勘探、病蟲害的防治、災(zāi)害(火災(zāi)、失效分析)鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業(yè)生產(chǎn)中的產(chǎn)品質(zhì)量鑒定及生產(chǎn)工藝控制等。在材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域,進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量,晶體/晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測(cè)量。


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