1.體積小的動態聚焦系統，小于同行業1/3以上。

2.小光斑設計方案，小聚焦光斑為30微米。

3.精確的光路設計與加工，大幅面和曲面加工能量衰減小。

4.系統運行速度快，滿足4000mm/s以上的速度標刻。

5.標刻幅面達到400*400mm，滿足大幅面雕刻的使用要求。

6.大標刻高度達到280mm。

7.改變聚焦軸的位置，可進行深度雕刻，使用于浮雕等3D應用。

8.打標軟件3D操作界面，設定基準面正反面切換，3D坐標軸模擬打標內容，可以幫助使用者擺放工件，編輯打標圖形。

9.精密控制打標機的焦距位置，當進行3D深度打標加工時自動調整Z軸范圍，保持光斑小化，保證物體打標后圖形的效果一致性。

10.內建凹凸圓管、凹凸球面、斜面、椎體、多邊形等基礎模型，便于操作者快速進行打標設置。

11.支持3D模型導入，2D圖形可以直接包覆在內建常用曲面上，2D圖形也可以投影放入STL曲面之上。

12.控制板卡支持內存記憶卡，可以存儲16組離線雕刻文檔。

13.整個系統采用電磁兼容優化設計，信噪比高、抗*力強