機床商務網
詳細介紹
全自動晶圓研磨機GDM300可進行晶圓減薄
——又稱晶圓拋光/晶圓背拋/Wafer Grinding
全自動晶圓研磨機GDM300晶圓減薄特長：
·采用全自動系統，從后磨到貼裝的連續過程，可研磨至25um厚度。
·2個磨頭階段，產量幾乎是1個磨頭系統的兩倍。
·內置修邊系統可作為薄型晶圓加工的選擇。
·雙指標體系，拋光階段和研磨階段*分離，滿足TSV和MEMS工藝所需的清潔。
·超亮度小于Ra1A，可超鏡面。
全自動晶圓研磨機GDM300可進行晶圓減薄相關產品：
衡鵬供應
OKAMOTO_GNX200BP晶圓研磨/晶圓減薄/晶圓拋光/晶圓背拋/Wafer Grinding
機床商務網