詳細介紹
氧化鋅高剪切膠體磨,氧化鋅納米級高剪切均質分散機,氧化鋅高高轉速膠體磨,氧化鋅在線式分散機,氧化鋅研磨分散均質乳化機,氧化鋅高轉速剪切分散機,氧化鋅高轉速納米分散機,氧化鋅,納米氧化鋅高剪切研磨分散機
氧化鋅是鋅的一種氧化物。難溶于水,可溶于酸和強堿。氧化鋅是一種常用的化學添加劑,廣泛地應用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大,透明度高,有優異的常溫發光性能,在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發光二極管等產品中均有應用。此外,微顆粒的氧化鋅作為一種納米材料也開始在相關領域發揮作用
影響納米材料分散的因素有哪些
1.分散介質:根據粘度不同,分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中,如水和有機溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質如液態環氧樹脂、液態硅橡膠等,高粘度介質如熔融態的塑料。
2、分散劑:
(1)分散劑的選擇,與分散介質的結構、極性、溶度參數等密切相關。
(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。
(3)水性介質中,*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS
3.分散設備:對于像氧化鋅這樣的納米級高分子材料要想分散出好的產品關鍵,現在市面上對于納米的分散設備一般有:高壓均質機、砂磨機、研磨分散機。在這三種設備中高壓均質機和砂磨機做出的產品的粒度會比研磨分散做出的粒度小但是高壓均質機和砂磨機的價格都比研磨分散的價格高,而且產量小。
所以在設備的選用上優先考慮性價比高的研磨分散機。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
氧化鋅高剪切膠體磨設備參數
型號 | 標準流量L/H | 輸出轉速Rpm | 標準線速度m/s | 馬達功率KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
KZSD2000/4 | 300-1,000 | 18,000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
KZSD2000/5 | 1,000-1,500 | 13,500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
KZSD2000/10 | 3,000 | 9,300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
KZSD2000/20 | 8,000 | 3,600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
KZSD2000/30 | 20,000 | 3,600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
KZSD2000/50 | 40,000 | 2,500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數據因技術改動,定制而不同,正確的參數以提供的實物為準。