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等離子電漿拋光設備
閱讀：497 發布時間：2013-4-20
等離子電漿拋光設備 ECMA150KVA
等離子也稱為物質的第四態，是一種電磁氣態放電現象，使氣態粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態，等離子態能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。
本產品采用的拋光技術是一種*不同傳統方法的新型拋光技術，稱之為液態電漿拋光技術。此拋光技術是根據電化學原理與化學反應原理而研發設計的。是利用電解質成分、電解質水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關聯，而研發出操作的新型拋光技術。
電漿拋光（EDTM）機的主要特點:
（1）根據工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內達到近鏡面的拋光效果,使后續處理十分方便;
（2）在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
（3）拋光過程中使工件表面產生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強拋光面的抗腐蝕性能;
（4）拋光均勻程度*,整個工件表面甚至于所有死角部位都可達到一致的近鏡面效果;
（5）拋光過程由電參數控制,全過程采用進口PLC自動化控制,操作簡單,維護方便;
（6）生產效率高,生產成本低;
（7）拋光過程不產生化學污染【低濃度藥劑（95%~97%水+3%~5%的藥劑,PH值約6.5~7）】.
（8）清潔能力:EDTM系統不但定位為快速拋光機構之外,同時亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質及化學藥物,提供工件表面鍍膜前zui的前置處理.