【機(jī)床商務(wù)網(wǎng)欄目 國(guó)內(nèi)新聞】近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥爾(ASML)宣布，或?qū)⑼七t向中國(guó)半導(dǎo)體制造商交付極紫外光光刻機(jī)(EUV)。該公司發(fā)言人表示，此決定是因?yàn)槌隹谠S可證到期，目前正在向荷蘭政府申請(qǐng)新的許可證。
 

　　作為極紫外光刻芯片工具(EUV)的供應(yīng)商，延遲發(fā)貨將對(duì)中國(guó)芯片制造造成重?fù)簟６舜问艿接绊懙闹袊?guó)公司，疑為中芯(SMIC)。
 

　　日經(jīng)新聞援引消息人士的話稱，ASML成為美國(guó)政府的“犧牲品”，“延遲發(fā)貨”的一大原因來(lái)自于美國(guó)政府的壓力。
 

　　對(duì)此，ASML在7日回應(yīng)，指出公司正在申請(qǐng)?jiān)S可證，但日經(jīng)新聞所述“延遲出貨”僅為其媒體推測(cè)，ASML對(duì)此事從未評(píng)論或確認(rèn)。
 

　　中芯也就此事回應(yīng)稱，公司的EUV還處于“紙面工作”階段，尚未進(jìn)行相關(guān)活動(dòng)。中芯強(qiáng)調(diào)，目前，公司的先進(jìn)工藝研發(fā)進(jìn)展順利，研發(fā)與生產(chǎn)的連接一切正常，客戶與設(shè)備導(dǎo)入均正常運(yùn)作。
 

　　盡管中芯已經(jīng)澄清發(fā)文澄清，但是鑒于中興的前車之鑒，光刻機(jī)作為芯片制造的必需設(shè)備，如果真的斷供我們國(guó)家是否有補(bǔ)救措施呢？中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)又是否能代替國(guó)外呢？
 

　　ASML光刻機(jī)有多厲害？
 

　　光刻機(jī)，被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，制造難度非常大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。其售價(jià)高達(dá)7000萬(wàn)美金。用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上大的短板，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
 

　　在能夠制造機(jī)器的這幾家公司中，尤其以荷蘭(ASML)技術(shù)為先進(jìn)。價(jià)格也為高昂。光刻機(jī)的技術(shù)門(mén)檻極高，堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物。
 

　　光刻機(jī)跟照相機(jī)差不多，它的底片，是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經(jīng)光刻機(jī)，縮微投射到底片，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學(xué)處理。制造芯片，要重復(fù)幾十遍這個(gè)過(guò)程。位于光刻機(jī)中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成。鏡片得高純度透光材料+高質(zhì)量拋光。SMEE光刻機(jī)使用的鏡片，得數(shù)萬(wàn)美元一塊。ASML的鏡片是蔡司技術(shù)打底。鏡片材質(zhì)做到均勻，需幾十年到上百年技術(shù)積淀。
 

　　另外，光刻機(jī)需要體積小，但功率高而穩(wěn)定的光源。ASML的光刻機(jī)，使用波長(zhǎng)短的極紫外光，光學(xué)系統(tǒng)極復(fù)雜。有的鏡頭和光源，沒(méi)的機(jī)械精度，也是白搭。光刻機(jī)里有兩個(gè)同步運(yùn)動(dòng)的工件臺(tái)，一個(gè)載底片，一個(gè)載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個(gè)工作臺(tái)由靜到動(dòng)，加速度跟導(dǎo)彈發(fā)射差不多。賀榮明說(shuō)：“相當(dāng)于兩架大飛機(jī)從起飛到降落，始終齊頭并進(jìn)。一架飛機(jī)上伸出一把刀，在另一架飛機(jī)的米粒上刻字，不能刻壞了。”而且，溫濕度和空氣壓力變化會(huì)影響對(duì)焦。“機(jī)器內(nèi)部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，的測(cè)溫傳感器。”賀榮明說(shuō)。SMEE好的光刻機(jī)，包含13個(gè)分系統(tǒng)，3萬(wàn)個(gè)機(jī)械件，200多個(gè)傳感器，每一個(gè)都要穩(wěn)定。像歐洲杯決賽，任何一個(gè)人發(fā)揮失常就要輸球。
 

　　目前，只有一家企業(yè)在光刻機(jī)市場(chǎng)上占據(jù)了80%的份額，就是處于荷蘭的ASML，旗下所研發(fā)的EUV光刻機(jī)曾售價(jià)高達(dá)1億美元一臺(tái)，而且還不一定有貨。皆因每臺(tái)光刻機(jī)的裝配大約需要50000個(gè)零件左右。上的芯片制造商如Intel、臺(tái)積電、三星都是它名下的股東。
 

　　中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)和ASML的差距有多大？
 

　　目前，中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)和ASML相比，至少有10年以上的差距，短時(shí)間內(nèi)很難追上。
 

　　在光刻機(jī)領(lǐng)域，有人根據(jù)ASML的技術(shù)并結(jié)合芯片制造，分為四個(gè)檔次，分別是超，，中端，低檔。分別對(duì)應(yīng)的節(jié)點(diǎn)分別5/7nm工藝、7-28nm工藝、28-65nm工藝，65-90nm工藝。目前ASML的產(chǎn)品覆蓋所有檔次，而nikon的產(chǎn)品停留在28nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)，cannon和smee(上海微電子)停留在90nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)。
 

　　是的，中國(guó)的高技術(shù)是90nm，生產(chǎn)出來(lái)的光刻機(jī)處于低端，只能生產(chǎn)90nm的芯片，而在90nm之后，還有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。而這些節(jié)點(diǎn)技術(shù)，有好幾個(gè)臺(tái)階要上，首先是45nm的臺(tái)階，再到22nm的臺(tái)階，再到10nm臺(tái)階，再到7nm的臺(tái)階，真的是一步一個(gè)坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來(lái)。
 

　　所以說(shuō)，從目前的這個(gè)情況來(lái)看，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)落后ASML至少是10年以上。也就是說(shuō)，如果真的斷供，“卡脖子”的事情極有可能發(fā)生。
 

　　(資料來(lái)源觀察者網(wǎng)、金屬加工、鐵流等)