天津福業動力機械科技發展有限公司
滑塊R182122366/R182452366/R185362366
普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2～5g/L，也有資料是鉻酸含量的1%～2%，三鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質的含量有關。當Cr3+濃度偏低時， 于根離子的含量偏時出現的現象。陰極膜不連續，分散能力差，而且有在較的電流密度下才發生鉻的沉積；當Cr3+濃度偏時， 于根離子的含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導電性，使槽電壓升，而且會縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍，嚴重時，能產生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏時，也用小面積的陰極和大面積陽極，保持陽極電流密度為1～1.5A/dm2電解處理，處理時間視Cr3+的含量而定，從數小時到數晝夜。鍍液溫度為50～60℃時，效果較
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當電流密度不變時，電流效率隨溫度升而下降；若溫度固定，則電流效率隨電流密度的增大而增加。然而，當鉻酸酐與根離子比值減小時，變化相應變小。因此鍍硬鉻時，在滿足鍍層性能的前提下，通常采用較低的溫度和較的陰極電流密度，以獲得較的鍍層沉積速度。溫度一定時，隨電流密度增加，鍍液的分散能力稍有改善；與此相反，電流密度不變，鍍液的分散能力隨鍍液溫度升而有一定程度的減小。生產上一般采用中等溫度（45～60℃）與中等電流密度（30～45A/dm2）以得到光亮和硬度較的鉻鍍層。盡管鍍取光亮鍍層的工藝條件 寬，考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時，欲在不同部位鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化控制在土（1～2）℃之間。
